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        真空濺射離子鍍膜(PVD)服務商

        致力于高端涂層技術的研究提供成套解決方案

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        昆山PVD離子鍍膜技術

        時間:2023-06-24    點擊數:

        昆山PVD是物理氣相沉積技術(Physical Vapor Deposition)的簡稱,是指在真空條件下,采用物理的方法將材料(俗稱靶材或膜料)氣化成氣態分子、原子或離子,并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術,常見的PVD沉積技術有:蒸發技術、濺射技術、電弧技術。

                離子鍍膜技術是PVD技術的一種,是指在PVD沉積過程中,被鍍材料形成金屬或者非金屬等離子體(如Ti離子,N離子),等離子體在偏壓電場的作用下,沉積在工件表面上。由于離子鍍過程中,離子的能量更強,離子繞射性更好,膜層的結合力更好,膜層致密性也更好,膜層性能更好。

                離子鍍膜技術的應用非常廣泛,常見的有:裝飾性鍍膜,工具模具硬質鍍膜以及各種功能膜層。

        本文網址:http://www.jhbjypd.com/news/615.html

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